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前年度の中間成果ソフトウェアである KLIEG 2.0 に改良を施し,ビジュアル
なパターンを支援する機構をさらに充実させる。
今年度は,以下の項目に焦点を絞って研究を行った。
- 複数の側面を有するパターンの支援:
-
KLIEG のパターンを階層的に組み合わせることにより,ソフトウェアのマクロ
な構造を表現することが可能となる。
そのため,KLIEG では,複数の変更可能な挙動や性質を含むパターンを容易に
定義できる。
このような複数の側面を有するパターンをビジュアルに支援する機能を設計・
実現した。
- 複数の実現を保持するホールの支援:
-
昨年度の段階では,パターンの各変更可能箇所(ホール)に対し,一つの実現だ
けしか保持することができなかった。
この制限を撤廃し,各ホールに対し,デフォルトの実現やサンプルの実現を含
む複数の選択肢を保持できる機能を実現した。
- エディタとトレーサの連携の強化:
-
1 で述べたパターンの各側面に対し,エディタおよびトレーサが統一的な描画
イメージを提供するようにシステムを設計・実現した。
特に,エディタで定義した「側面の見え方」が,トレーサによる実行の可視化
に忠実に反映されるようにした。
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